Китайские учёные нашли путь к 3-нм чипам в обход санкций и EUV-литографии

20.09.2026 в 01:30 • 1 мин. чтения Просмотров: 8 • ID: #17631

Китайские исследователи наметили путь к выпуску транзисторов класса 3 нм с использованием глубокой ультрафиолетовой литографии (DUV) вместо более современной EUV. Разработка пока находится на ранней стадии и не готова к массовому производству, но показывает, что Китай продолжает искать способы выпускать передовые полупроводники без доступа к новейшему западному оборудованию. Источник изображения: SMIC

Ваша оценка:
Источник: 3dnews.ru