Китайское оборудование класса DUV для производства чипов на несколько поколений отстаёт от нидерландского компании ASML
На прошлой неделе появились слухи о намерениях китайских производителей начать выпуск оборудования для иммерсионной литографии с глубоким ультрафиолетовым излучением (DUV), которое позволяет создавать достаточно продвинутые чипы. По оценкам экспертов, оно всё равно на несколько поколений отстаёт от лучших образцов нидерландской ASML. Источник изображения: ASML
Ваша оценка:
Источник:
3dnews.ru